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3D晶体管技术
发布时间:2024-08-15 | 版权所有:必一体育

  虽然英特尔高层放言芯片代工将走向穷途末路,但是,台联电却不这么认为,其高层Stan Hung表示芯片代工有着积极乐观的前景。

  在今年5月底,有关媒体报道,台联电斥资80亿建造300mm Fab 12A phase 5和6工厂。如今,又在积极的进行3D晶体管的研发,获得IBM的FinFET技术专利授权。

  FinFET晶体管,通常也叫3D晶体管,目前有许多企业和科研机构都在研究3D晶体管FinFET技术。传统标准的晶体管场效晶体管 (Field-effecttransistor;FET),其控制电流通过的闸门,只能在闸门的一侧控制电路的接通与断开,属于平面的架构。而FinFET则是一种3D结构,全名为FinField-effecttransistor,鳍式场效晶体管。通过类似鱼鳍的叉状3D架构的闸门,来控制电路的接通与断开。

  我们来看在IDF2012大会上,英特尔官方给出的22nm三栅极晶体管结构图,是采用3D结构的闸门(英特尔中文翻译为栅),来实现晶体管电路的接通与闭合。在英特尔官方介绍中,也用到了“鳍”这一个字来形容闸门。

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